HGST開發出新奈米微影技術可大幅提昇硬碟容量

WD旗下HGST宣佈開發出新奈米微影技術，可製造10奈米磁島寬度新介質，大幅提昇硬碟儲存密度，使現有硬碟儲存容量再向上推升。

HGST表示，這項技術是透過自組裝分子（Self-assembling）與奈米壓印技術（nanoimprinting），開發出大面積、高密度的儲存介質，介質上的磁島寬度僅有10奈米，相當於50個原子寬度，比人類髮絲的10萬分之1還細。

HGST研究中心副總裁Currie Munce表示，結合自組裝分子、線路倍增與奈米壓印等技術，利用位元規則介質(bit-patterned media, BPM)，大幅提升硬碟資料密度，突破現有硬碟儲存能力。

目前半導體業者為縮小電路體積採用光學微影技術（photolithography），以短光波、更佳的光學材料、光罩，及感光材料、製程達成目的，因紫外光源複雜、成本昂貴，光學微影技術發展緩慢。HGST指出，以新的奈米微影技術將能突破障礙，未來運用於硬碟儲存裝置上，解決大量資料儲存的技術瓶頸。

新技術製造出的10奈米圖案位元密度是現今硬碟密度的兩倍，實驗室測試結果可提供良好的讀寫速度和資料保存能力。估計整個硬碟在奈米壓印後，可製造出一兆個以上不連續磁島。

新技術未來不僅可用於硬碟上提昇儲存容量，也能用在半導體領域，例如為電腦記憶體製作間距一致的區塊，或是各種線路接點和其他週期性特徵，促成半導體應用領域應用的提昇。