日本獨立行政法人產業技術綜合研究所與國立東京大學週一(5/19)發表利用鐵電性場效電晶體(FeFET)提升NAND快閃記憶體使用壽命的技術,將目前約可讀寫1萬次的平均壽命提升1萬倍。

現存NAND快閃記憶體的製程約為30nm,寫入電壓在20V上下,而這次應用FeFET製作的試作品將讀寫次數延長至1億次以上,寫入電壓也調降到6V左右,可對應未來20nm、10nm製程製作的高密度大容量次世代NAND快閃記憶體。

研發時也根據寫入、刪除、覆蓋時的電壓臨界值與資料保存時間推演圖,推算出數據可在記憶體中保存至少10年,也證實在10µs、6V這種高速低電壓脈衝狀態下,讀寫特定記憶體儲存元件(Memory Cell)時不會誤讀寫鄰接儲存原件。

這項成果已經在5/18~5/22於法國舉行的第23屆非揮發性半導體記憶體工房(23rd IEEE NVSMW)中發表。(編譯/張嵐霆)

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