IBM周四(4/16)宣布其技術聯盟將共同開發28奈米、採用high-k金屬閘(HKMG)及CMOS影像感測技術的製程技術,預計在明年下半年進入早期試產。
IBM技術聯盟的成員包括三星、自超微(AMD)獨立的晶圓代工廠GlobalFoundries,以及特許半導體(Chartered Semiconductor Manufacturing、Infineon與意法半導體(STMicroelectronics)等,先前該聯盟便曾共同開發32奈米製程技術。
IBM說明,低耗電的28奈米技術平台擁有功率性能與上市時機的優勢,適用於各種具節能需求的行動及消費電子裝置,包含快速成長的行動網路裝置市場,而HKMG的特性則讓新一代的行動產品得有最佳化的電池壽命。
該聯盟已於去年12月釋出28奈米省電技術評估套件給早期使用客戶,並於今年3月開放存取,預計在明年下半年進入早期試產。
IBM表示,透過先前與客戶合作32奈米省電技術的經驗,該聯盟已擁有HKMG技術的寶貴經驗,而且可提供自32奈米轉移到28奈米技術的途徑,因此客戶可以開始設計他們的32奈米HKMG技術,而且不需要大規模的重新設計就能轉移到28奈米。
在與早期使用客戶的測試中IBM發現,28奈米技術平台除了晶片大小只有比45奈米技術的一半外,亦提昇了40%的效能並降低20%的電力損耗。
ST-Ericsson技術長Jorgen Lantto認為,從32奈米HKMG技術到28奈米是一個很重要的進步,手機產業可利用28奈米的省電技術迎合市場對效能及電池壽命的需求。
在全球晶片技術市場上,英特爾計畫在今年下半年推出首款32奈米晶片,並預計於2011年轉移到22奈米製程,另外,台積電已計畫在明年初試產28奈米晶片。(編譯/陳曉莉)
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