MIT新技術可在晶片上產生36nm線路

麻省理工學院（MIT）的研究人員發現了一種新方法，可在微晶片上蝕刻出36nm的線路，可望對晶片製造產生重大影響。

此項研究是由MIT電子研究室，以及化學工程和電機工程學系的科學家們所共同進行，結果並已發表於四月十日出刊的科學（Science）雜誌上。利用這項技術，研究人員可產生出只有36奈米寬的線路。

此技術是利用不同波長的光線，使一種特殊材料能在透明與不透明之間轉換，以產生線路。此材料並非一種全新材料，只是研究人員發現了一種新方式，可使其用來產生具有極細透明線路的光罩，然後再將此光罩用來產生晶圓上的相應線路。

能夠產生極細線路對許多新科技來說，都是非常重要的。從日益微縮的晶片製造到新興的奈米圖案都用得到。但這些技術都面臨基本的限制，因為必須依賴光源來產生圖案，而現有用來產生圖案的技術，都無法製作出比光源本身波長小很多的線路。但現在，MIT的研究人員突破了這項限制。

此技術的關鍵在於利用干擾圖案，也就是不同波長光線所造成的加強與抵銷效果。研究人員將光學變色（photochromic）材料暴露在一組具不同波長光線的干擾圖案中，便能夠在不透明材料上形成極細的透明線路。

研究人員稱這項技術為「吸光模組」(absorbance modulation)，可用來產生約光波長十分之一的線路。此技術的重點之一，是要找到適合的光學變色材料，能在暴露於光線下時，形成穩定的透明與非透明圖案。

MIT表示，這項技術除了會對晶片製造產生重大影響，也能為許多新興的奈米領域帶來全新發展。目前已有一家公司與MIT合作持續開發這項技術，MIT表示，希望能在五年內將其商業化。

此外，MIT表示，目前研究團隊正試圖將此技術用在影像系統，有可能進一步開創出擁有奈米級解析度的全新顯微鏡，可用在生物科技與材料科學的研究。同時，研究團隊還在探索，這項技術是否有可能產生分子級的更細線路。(范眠)